外围滚球软件

微纳光电子功能材料实验室

超高真空薄膜制备系统

更新时间:2019-01-21 【打印】 【关闭
设备名称: 超高真空薄膜制备系统
设备型号  JGP560 设备编号  726201 产 地  沈阳
制造商名称  中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司
经销商  中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司
购置时间  2007/4/20 启用日期  2008/8/6 仪器金额  500000
接收时的状态及验收记录  完好,验收合格
仪器描述  本系统为单室立式结构的超高真空多功能磁控溅射镀膜系统.
仪器主要配件  射频磁控电源、控温装置、微机控制膜层系统等
仪器主要功能  本底真空可达≦1×10-5Pa,可采用直流溅射、射频溅射、反应溅射、共溅射等溅射方法开发制备纳米级单层及多层功能膜、各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等。其中一个样品表面温度可加热到600℃.可加负偏压。
分析项目说明  靶材要求:溅射靶材直径为60mm,厚≦5mm  基片要求:尺寸为20×50mm或直径为30mm的圆形基片。
联系方式  张奎:021-69918562
设备图片